可进行动态及静态显影，适用于正性光刻胶、负性光刻胶及非感光性光刻胶，自动程序运行，可编程。
主要技术指标：
显影均匀性：
±3%以内；
显影分辨率：
0.6um；
基片尺寸：
Φ2" ~ Φ6" wafer ；
